Zpět na hledáníExposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam (2014)výskyt výsledku
| Identifikační kód | RIV/68081731:_____/14:00437838 |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce | Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam |
| Druh | D - Stať ve sborníku |
| Jazyk | eng - angličtina |
| Obor - skupina | J - Průmysl |
| Obor | JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika |
| Rok uplatnění | 2014 |
| Kód důvěrnosti údajů | S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
| Počet výskytů výsledku | 3 |
| Počet tvůrců celkem | 7 |
| Počet domácích tvůrců | 7 |
| Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců | Miroslav Horáček (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 1259458) Jana Chlumská (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 6389090) Vladimír Kolařík (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 3455599) Stanislav Krátký (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 9640282) Milan Matějka (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 5422043) Petr Meluzín (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 6141358) Michal Urbánek (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 8423350) |
| Popis výsledku v anglickém jazyce | One of the main goals in e-beam lithography is to increase exposure speed to achieve higher throughput. There are basically two types of electron-beam writers, shaped beam lithography systems and Gaussian beam lithography systems. The exposure time of both e-beam writers consist in essence of beam-on time, deflection system stabilization time and stage movement time. Exposure time testing was carried out on two types of patterns. There were completely filled in areas, binary period gratings (ratio 1:1 between exposed and unexposed areas), and multileveled structures (computer generated holograms). Exposures data was prepared according to standard technology (PMMA resist, exposure dose, non-alcoholic based developer) for both systems. The result of experiment shows that variable shaped beam system has advantage in multileveled structures while the Gaussian beam system is more suitable for gratings type of pattern. It was proved that combination of both systems has its use to increase ex |
| Klíčová slova oddělená středníkem | e-beam writer; Gaussian beam; variable shaped beam |
| Stránka www, na které se nachází výsledek | - |
| Odkaz na údaje z výzkumu | - |
Údaje o výsledku v závislosti na druhu výsledku
| Název sborníku | NANOCON 2014. 6th International conference proceedings |
|---|---|
| ISBN | 978-80-87294-55-0 |
| ISSN | - |
| e-ISSN | - |
| Počet stran výsledku | 5 |
| Strana od-do | |
| Název nakladatele | TANGER |
| Místo vydání | Ostrava |
| Místo konání akce | Brno |
| Datum konání akce | 05.11.2014 |
| Typ akce podle státní příslušnosti účastníků | WRD - Celosvětová |
| Kód UT WoS článku podle Web of Science | - |
| EID výsledku v databázi Scopus | - |
Ostatní informace o výsledku
| Předkladatel | Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. |
|---|---|
| Dodavatel | MSM - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (MŠMT) |
| Rok sběru | 2015 |
| Specifikace | RIV/68081731:_____/14:00437838!RIV15-MSM-68081731 |
| Datum poslední aktualizace výsledku | 12.05.2015 |
| Kontrolní číslo | 152372604 |
Informace o dalších výskytech výsledku dodaného stejným předkladatelem
| Dodáno AV ČR v roce 2015 | RIV/68081731:_____/14:00437838 v dodávce dat RIV15-AV0-68081731/01:1 |
|---|---|
| Dodáno TA ČR v roce 2015 | RIV/68081731:_____/14:00437838 v dodávce dat RIV15-TA0-68081731/02:2 |
Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl
| Projekt podporovaný MŠMT v programu ED | ED0017/01/01 - APLIKACNÍ A VÝVOJOVÉ LABORATORE POKROCILÝCH MIKROTECHNOLOGIÍ A NANOTECHNOLOGIÍ (2009 - 2013) |
|---|---|
| Projekt podporovaný MŠMT v programu LO | LO1212 - ALISI - Centrum pokročilých diagnostických metod a technologií (2014 - 2018) |