| Identifikační kód |
RIV/61389005:_____/20:00523925 |
| Název v anglickém jazyce |
Laser and ion beams graphene oxide reduction for microelectronic devices |
| Druh |
J - Recenzovaný odborný článek (Jimp, Jsc a Jost) |
| Poddruh |
J/A - Článek v odborném periodiku je obsažen v databázi Web of Science společností Thomson Reuters s příznakem „Article“, „Review“ nebo „Letter“ (Jimp) |
| Jazyk |
eng - angličtina |
| Vědní obor |
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics) |
| Rok uplatnění |
2020 |
| Kód důvěrnosti údajů |
S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
| Počet výskytů výsledku |
3 |
| Počet tvůrců celkem |
5 |
| Počet domácích tvůrců |
3 |
| Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců |
Mariapompea Cutroneo (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 1549499, orcid: 0000-0002-8416-8454)
Vladimír Havránek (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 3272591, researcherid: G-9451-2014)
Alfio Torrisi (státní příslušnost: IT - Italská republika, domácí tvůrce: A, orcid: 0000-0003-2404-5062, researcherid: G-6649-2019)
L. Silipigni (státní příslušnost: IT - Italská republika)
L. Torrisi (státní příslušnost: IT - Italská republika) |
| Popis výsledku v anglickém jazyce |
Reduced graphene oxide (rGO) is a two-dimensional material, which is attracting increasing attention due to its special properties. It can be obtained by laser or ion beam irradiations of pristine graphene oxide (GO). It shows high mechanical resistance, considerable electric and thermal conductivity. All these rGO characteristics together with the high number of molecular species that can be embedded between its layers, make graphene oxide a potential material for electronic sensors or efficient support on which conductive strips, condensers, and micrometric electronic devices can be designed. In particular, as it is described in this paper, it is possible to carry out high spatial resolution lithography in GO by using a focused laser or micro ion beam in order to design macro, micro, and submicron geometrical structures. The use of the reduced graphene oxide for the laser and ion beam fabrication of electrical resistances and capacitances is presented. |
| Klíčová slova oddělená středníkem |
Graphene oxide;ion beam reduction;lithography;laser;ion beam;electronic device |
| Stránka www, na které se nachází výsledek |
https://doi.org/10.1080/10420150.2019.1701456 |
| DOI výsledku |
10.1080/10420150.2019.1701456 |
| Odkaz na údaje z výzkumu |
- |