Identifikační kód |
RIV/61388980:_____/12:00382471 |
Název v anglickém jazyce |
Carboranedithiols: Building Blocks for Self-Assembled Monolayers on Copper Surfaces |
Druh |
J - Recenzovaný odborný článek (Jimp, Jsc a Jost) |
Poddruh |
- |
Jazyk |
eng - angličtina |
Obor - skupina |
C - Chemie |
Obor |
CA - Anorganická chemie |
Rok uplatnění |
2012 |
Kód důvěrnosti údajů |
S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
Počet výskytů výsledku |
5 |
Počet tvůrců celkem |
6 |
Počet domácích tvůrců |
3 |
Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců |
Tomáš Baše (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 3350037) Jens Langecker (státní příslušnost: DE - Spolková republika Německo, domácí tvůrce: A) Jan Macháček (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 1797271) Zdeněk Bastl (státní příslušnost: CZ - Česká republika) Vladimír Havránek (státní příslušnost: CZ - Česká republika) Václav Malina (státní příslušnost: CZ - Česká republika) |
Popis výsledku v anglickém jazyce |
Two different positional isomers of 1,2-dicarba-closo-dodecaboranedithiols, 1,2-(HS)(2)-1,2-C2B10H10 (1) and 9,12-(HS)2-1,2-C2B10H10 (2), have been investigated as cluster building blocks for self-assembled monolayers (SAMs) on copper surfaces. These twoisomers represent a convenient system in which the attachment of SH groups at different positions on the skeleton affects their acidic character and thus also determines their reactivity with a copper surface. Isomer 1 exhibited etching of polycrystalline Cu films, and a detailed investigation of the experimental conditions showed that both the acidic character of SH groups and the presence of oxygen at the copper surface play crucial roles in how the surface reaction proceeds: whether toward a self-assembled monolayer or toward copper film etching. We found that each positional isomer requires completely different conditions for the preparation of a SAM on copper surfaces Both isomers exhibited high capacity to remove oxygen atoms fro |
Klíčová slova oddělená středníkem |
copper surfaces; carboranethiols; cluster; chemisorption; self-assembled monolayer |
Stránka www, na které se nachází výsledek |
- |
DOI výsledku |
https://doi.org/10.1021/la302334x |
Odkaz na údaje z výzkumu |
- |