Informační systém výzkumu,
vývoje a inovací

Rejstřík informací o výsledcích

Jednoduché vyhledávání

Zpět na hledáníSimultaneous determination of optical constants, local thickness and roughness of ZnSe thin films by imaging spectroscopic reflectometry (2016)výskyt výsledku

Identifikační kód RIV/00216224:14740/16:00087663
Název v anglickém jazyce Simultaneous determination of optical constants, local thickness and roughness of ZnSe thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Druh J - Recenzovaný odborný článek (Jimp, Jsc a Jost)
Poddruh -
Jazyk eng - angličtina
Obor - skupina B - Fyzika a matematika
Obor BH - Optika, masery a lasery
Rok uplatnění 2016
Kód důvěrnosti údajů S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů.
Počet výskytů výsledku 4
Počet tvůrců celkem 5
Počet domácích tvůrců 3
Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců Daniel Franta (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 9412921)
David Nečas (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 5870879)
Ivan Ohlídal (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 2026384)
M. Ohlidal (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
J. Vodak (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
Popis výsledku v anglickém jazyce A rough non-uniform ZnSe thin film on a GaAs substrate is optically characterised using imaging spectroscopic reflectometry (ISR) in the visible, UV and near IR region, applied as a standalone technique. A global-local data processing algorithm is used to fit spectra from all pixels together and simultaneously determine maps of the local film thickness, roughness and overlayer thickness as well as spectral dependencies of film optical constants determined for the sample as a whole. The roughness of the film upper boundary is modelled using scalar diffraction theory (SDT), for which an improved calculation method is developed to process the large quantities of experimental data produced by ISR efficiently. This method avoids expensive operations by expressing the series obtained from SDT using a double recurrence relation and it is shown that it essentially eliminates the necessity for any speed-precision trade-offs in the SDT calculations.
Klíčová slova oddělená středníkem thin films;roughness;scalar diffraction theory;spectrophotometry;imaging techniques;zinc selenide;reflectometry
Stránka www, na které se nachází výsledek http://iopscience.iop.org/article/10.1088/2040-8978/18/1/015401/meta
DOI výsledku 10.1088/2040-8978/18/1/015401
Odkaz na údaje z výzkumu -

Údaje o výsledku v závislosti na druhu výsledku

Název periodika Journal of Optics
ISSN 2040-8978
e-ISSN -
Svazek periodika 18
Číslo periodika v rámci uvedeného svazku 1
Stát vydavatele periodika GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku 10
Strana od-do
Kód UT WoS článku podle Web of Science 000367187000025
EID výsledku v databázi Scopus 2-s2.0-84951732026
Způsob publikování výsledku -
Předpokládaný termín zveřejnění plného textu výsledku -

Ostatní informace o výsledku

Předkladatel Masarykova univerzita / Středoevropský technologický institut
Dodavatel MSM - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (MŠMT)
Rok sběru 2017
Specifikace RIV/00216224:14740/16:00087663!RIV17-MSM-14740___
Datum poslední aktualizace výsledku 26.05.2017
Kontrolní číslo 191934739 ( v1.0 )

Informace o dalších výskytech výsledku dodaného stejným předkladatelem

Dodáno TA ČR v roce 2017 RIV/00216224:14740/16:00087663 v dodávce dat RIV17-TA0-14740___/02:1

Informace o dalších výskytech výsledku dodaného ostatními předkladateli

Dodáno MŠMT v roce 2017 RIV/00216305:26210/16:PU118776 v dodávce dat RIV17-MSM-26210___/02:3 předkladatelem Vysoké učení technické v Brně / Fakulta strojního inženýrství
Dodáno TA ČR v roce 2017 RIV/00216305:26210/16:PU118776 v dodávce dat RIV17-TA0-26210___/02:2 předkladatelem Vysoké učení technické v Brně / Fakulta strojního inženýrství

Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl

Projekt podporovaný MŠMT v programu ED ED1.1.00/02.0068 - CEITEC - central european institute of technology (2011 - 2015)
Projekt podporovaný MŠMT v programu ED ED2.1.00/03.0086 - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (2010 - 2014)
Projekt podporovaný TA ČR v programu TA TA02010784 - Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu (2012 - 2015)
Vyhledávání ...