Zpět na hledáníLift-Off technique using different e-beam writers (2013)výskyt výsledku
| Identifikační kód | RIV/68081731:_____/13:00429790 |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce | Lift-Off technique using different e-beam writers |
| Druh | D - Stať ve sborníku |
| Jazyk | eng - angličtina |
| Vědní obor | 10306 - Optics (including laser optics and quantum optics) |
| Rok uplatnění | 2013 |
| Kód důvěrnosti údajů | S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
| Počet výskytů výsledku | 3 |
| Počet tvůrců celkem | 6 |
| Počet domácích tvůrců | 6 |
| Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců | Miroslav Horáček (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 1259458, researcherid: D-2131-2012) Jana Chlumská (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 6389090, researcherid: G-1036-2014) Vladimír Kolařík (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 3455599, researcherid: D-2059-2012) Stanislav Krátký (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 9640282, researcherid: D-6833-2012) Milan Matějka (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 5422043, researcherid: D-3383-2012) Michal Urbánek (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 8423350, researcherid: D-5205-2012) |
| Popis výsledku v anglickém jazyce | This paper deals with lift–off technique performed by the way of electron beam lithography. Lift–off is a technique mainly used for preparation of metallic patterns and unlike etching it is an additive technique using a sacrificial material – e.g. e–beam resist PMMA. In this paper we discussed technique of preparation of lift–off mask on two different e–beam writing systems. The first system was BS600 – e–beam writer with rectangular variable shaped beam working with 15keV. The second system was Vistec EBPG5000+ HR – e–beam writer with Gaussian shape beam working with 50 keV and 100 keV. The PMMA resist single layer and bi–layer was used for the lift–off mask preparation. As a material for creation of metallic pattern, magnetron sputtered chromium was used. Atomic force microscope, scanning electron microscope and contact profilometer were used to measure and evaluate the results of this process. |
| Klíčová slova oddělená středníkem | Lift–Off;electron-beam lithography;e–beam writers with shaped and Gaussian beam |
| Stránka www, na které se nachází výsledek | - |
| Odkaz na údaje z výzkumu | - |
Údaje o výsledku v závislosti na druhu výsledku
| Název sborníku | NANOCON 2013. 5th International Conference Proceedings |
|---|---|
| ISBN | 978-80-87294-44-4 |
| ISSN | - |
| e-ISSN | - |
| Počet stran výsledku | 5 |
| Strana od-do | 286-290 |
| Název nakladatele | TANGER Ltd |
| Místo vydání | Ostrava |
| Místo konání akce | Brno |
| Datum konání akce | 16.10.2013 |
| Typ akce podle státní příslušnosti účastníků | WRD - Celosvětová |
| Kód UT WoS článku podle Web of Science | 000352070900050 |
| EID výsledku v databázi Scopus | - |
Ostatní informace o výsledku
| Předkladatel | Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. |
|---|---|
| Dodavatel | AV0 - Akademie věd České republiky (AV ČR ) |
| Rok sběru | 2019 |
| Specifikace | RIV/68081731:_____/13:00429790!RIV19-AV0-68081731 |
| Datum poslední aktualizace výsledku | 28.08.2019 |
| Kontrolní číslo | 192139501 ( v1.0 ) |
Informace o dalších výskytech výsledku dodaného stejným předkladatelem
| Dodáno TA ČR v roce 2019 | RIV/68081731:_____/13:00429790 v dodávce dat RIV19-TA0-68081731/02:1 |
|---|---|
| Dodáno MŠMT v roce 2019 | RIV/68081731:_____/13:00429790 v dodávce dat RIV19-MSM-68081731/02:1 |
Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl
| Podpora / návaznosti | Institucionální podpora na rozvoj výzkumné organizace |
|---|