Informační systém výzkumu,
vývoje a inovací

Rejstřík informací o výsledcích

Jednoduché vyhledávání

Zpět na hledáníElectric resistivity of understoichiometric TiO2 received by plasma spraying (2005)výskyt výsledku

Identifikační kód RIV/61389021:_____/05:00042046
Název v anglickém jazyce Electric resistivity of understoichiometric TiO2 received by plasma spraying
Druh D - Stať ve sborníku
Jazyk eng - angličtina
Obor - skupina J - Průmysl
Obor JH - Keramika, žáruvzdorné materiály a skla
Rok uplatnění 2005
Kód důvěrnosti údajů S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů.
Počet výskytů výsledku 3
Počet tvůrců celkem 3
Počet domácích tvůrců 2
Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců Pavel Ctibor (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 9073914)
Karel Neufuss (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 4036255)
J. Sedláček (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
Popis výsledku v anglickém jazyce The work is concentrated on electric resistivity of plasma sprayed titania TiO2. Synthetic conventional TiO2 powder and powder prepared by agglomeration of nanopowder particles were sprayed and measured. Spraying was carried out using the water-stabilized plasma system (WSP?) and resistivity measurement was applied on TiO2 layers detached from the substrate. Variations in basic spray conditions ? spray distance, feedindg distance and substrate preheating temperature were commented from the point of viewof their influence on electric resistivity.
Klíčová slova oddělená středníkem Titanium oxide; resistivity; plasma parameters; preheating
Stránka www, na které se nachází výsledek -
Odkaz na údaje z výzkumu -

Údaje o výsledku v závislosti na druhu výsledku

Název sborníku Proceedings of the 15th Joint Seminar ?Development of Materials Science in Research and Education?
ISBN 80-901748-7-6
ISSN -
e-ISSN -
Počet stran výsledku 2
Strana od-do 62-63
Název nakladatele Czech and Slovac Society for Crystal Growth (Cs-Sl. Společnost pro růst krystalu)
Místo vydání Praha
Místo konání akce Valtice
Datum konání akce 05.06.2005
Typ akce podle státní příslušnosti účastníků EUR - Evropská
Kód UT WoS článku podle Web of Science -
EID výsledku v databázi Scopus -

Ostatní informace o výsledku

Předkladatel Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
Dodavatel AV0 - Akademie věd České republiky (AV ČR )
Rok sběru 2007
Specifikace RIV/61389021:_____/05:00042046!RIV07-AV0-61389021
Datum poslední aktualizace výsledku 17.12.2007
Kontrolní číslo 10484184

Informace o dalších výskytech výsledku dodaného ostatními předkladateli

Dodáno MŠMT v roce 2007 RIV/68407700:21230/06:03120568 v dodávce dat RIV07-MSM-21230___/02:2 předkladatelem České vysoké učení technické v Praze / Fakulta elektrotechnická

Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl

Výzkumný záměr podporovaný AV ČR AV0Z20430508 - Fyzikální a chemické procesy v plazmatu a jejich aplikace (2005 - 2010)
Vyhledávání ...